Microstructure Physics

 

Applied Surface Physics and Micro Technology

B. Feldeffekttransistoren  Übung am 22. Mai 06, 18 Uhr

 

1. Weite der Raumladungszone: Stellen sie die Gesamtladung an den Orten (x) im Bereich der Raumladungszone eines pn-Übergangs auf. Vergessen sie nicht die ionisierten Dotieratome. Nehmen sie an, die beiden Teile der RLZ erstreckten sich bis xn und xp. Stellen sie die Poisson-Gleichung auf und integrieren sie über das Gebiet, in dem das E-Feld ungleich Null ist (d.h. von xp bis xn). Im metallurgischen pn-Übergang lässt sich dann Emax leicht angeben. Integrieren sie die Poissongleichung unter Verwendung von Emax. Benutzen sie weiterhin die Näherung, dass die Diffusionsspannung UDiff = ½ Emax* W ist, wobei W die Weite der Raumladungszone beschreibt. Damit erhalten sie einen Ausdruck für die Weite der Raumladungszone unter Verwendung von UDiff,, NA und ND.

 

2. Raumladungszone: Welche Ausdehnung hat eine RLZ für einen pn-Übergang mit NA= 1017 und ND= 5*1O15 cm-3? Eine genaue Formel für die Weite der RLZ lautet (unter Berücksichtigung der Majoritätsladungsträgerüberschüsse)

 

3. Ein MOSFET hat ein 40 nm dickes Gateoxid.

a) Berechnen sie die Flächenkapazität des Bauelementes.

b) Berechnen sie den Steilheitskoeffizienten K für µn= 700 cm2/Vs und eine Kanallänge von 5 µm und –weite von 500 µm.

c) Welche Steilheit S ergibt sich für einen solchen Transistor, wenn er eine Einsatzspannung von
U
T=-1,5 Volt hat bei einer Gatespannung UG 3 Volt und ggf. UDS = 1 Volt?
Was ändert sich für U
DS =0 5 Volt?

 

4. Sourceschaltung. Diese Schaltung ist die gewöhnlichste Anwendung von FET.

Es seien UB=5V, RDrain = 1 kohm, K=4mA/V2 und Uth=1 Volt. Skizzieren sie den Ue / Ua – Verlauf und stellen sie eine einfache Gleichung für Ua auf, wenn wir annehmen, dass Iaus vernachlässigt werden darf.